接触角测量仪系统组成:主机(采用工业铝型材)1台进样器调整装置、1个微量进样器、2个高级连续变倍变焦镜头、1个进样器螺旋旋钮、1个300万高清数字摄像头、1个平行光光源系统、1套试验平台、1个一维前后调整平台、1个接触角测量仪方式和精度:*注;提供四种静态表面接触家分析方法,可以根据不同的试验图片和使用习惯选择,灵活方便。*液滴法、固体表面能估算、θ/2法介绍;通过移动曲线尺,后来左转是计算的是左接触角测量仪,右旋计算的是右接触角测量仪。量高法介绍;冻结图片后,按顺序用鼠标左键点击液滴的左、右端和液滴顶端。如图所示,结果自动计算并显示。(如需快速分析,可直接测量,无须冻结图象)上海接触角测量仪那家好?上海艾飞思告诉您!湖南粉体接触角测量仪
如何测量粉体接触角?渗透法:该法的基本原理是:固态粉体间的空隙相当于一束毛细管,由于毛细作用,液体能自发渗透进入粉体柱中(毛细上升效应)。毛细作用取决于液体的表面张力和固体的接触角,故通过测定已知表面张力液体在粉末柱中的透过状况,就可以得到有关该液体对粉末的接触角的信息。具体的测定方法是:将固体粉末以固定操作方法装入一个样品测量管中,管的底部有特制的小孔,即能防止粉末漏失,又容许液体自由通过,当管底与液体接触时,液体在毛细力的作用下在管中上升。在t时间内上升高度A可由Washburn方程描述:h2=(γRcosθ/2η)?t,式中γ为液体的表面张力,R为粉末柱的有效毛细管半径,η为液体的粘度,θ为接触角,t为时间。以h2对t作图得一直线。直线的斜率k=γRcosθ/2η,进而可求出θ=arccos(2kη/γR)。为了确定R值,一般先用一种对样品接触角为零的液体进行实验,然后再在相同条件下用其他液体实验,测定θ值。河南接触角测量仪软件浙江正规接触角测量仪公司。
接触角测量仪用于测试液体对固体的浸润性,即各种液体对各种固体材料所形成的接触角测量仪的大小判断其浸润水性。方法是在一固体水平平面上滴一液滴,测试固体表面上的固—液—气三相交界点处,其气—液界面和固—液界面两...接触角测量仪主要技术参数及说明:*成像:成像分辨率比较大2048*1536的无论从像素、像元尺寸、分辨率都比较低,而液滴形态是否清晰对接触角测量仪计算非常重要接触角测量仪尺寸;130mmX120mm;0-65mm,:0-70mm,前后;0-35mm精度;;上下左右调整装置可上下、左右调整使用非常方便螺旋进样旋钮调整范围0-50mm,采用高精度手动丝杆推进加样装置,保证加液的平稳和精确。接触角测量仪两基点法介绍:应用领域包含:玻璃,LCD、LCM平板显示器、蓝宝石玻璃、手表镜片,手机和笔记本电脑的按键及外壳,CMOS摄像头及数码相机零组件,Si,InP,GaAs晶圆、晶片、光纤、电路板、X-ray镜片、UV/IR镜片、光盘读写头零组件、光学元件等的水滴、接触角测量仪。
FCA2000B型接触角测量仪参数指标:一、整体指标:1.接触角测量范围:0-180°2.接触角分辨率:°3.接触角测值精度:±°(θ/2法)4.仪器尺寸及重量:600Wx1200Dx800Hmm18kg5.电源:AC220—240V50HZ二、硬件指标:(一)样品台及其控制:1、样品台移动:X行程:手动900mmY行程:手动170mm精度:Z行程:手动25mm精度:2、样品台大小:900*900mm.;3、仪器水平控制:样品台水平控制、镜头水平控制和整机四脚水平(二)进液系统及其控制:1、进液系统:高精度自动进样系统;2、进液器:高精度可更换针头气密玻璃针管50ul、100ul3、针头:、聚四氟乙烯针头4、进样器控制:XY行程:手动*Z行程:手动25mm实现移液及焦距对焦功能5、进样模式:程序设置进样区域,多点自动按序拍摄,统一分析计算,自动得到数据,一键出结果。~接触角测量仪的市场价格大概多少?
您的样品的尺寸大小,有时,大样品对于接触角测量仪的标准配备是不适合的。您一定要记得与您的供应商谈一下您的样品尺寸,包括大小,厚度等。如石油系统测试岩心的接触角值,您一定要与供应商沟通。通常的接触角测量仪的样品台是无法支持的。 (2)您的样品的外形。接触角测值通常受您的样品的外形有一定的影响。如您的样品是曲面是,通常需要校正曲面,如您的样品是一个杯形的内孔,那么您只能选购上海梭伦科技提供的专业技术。同时结合曲线水平线技术,可以解决很多问题的。 3、从接触角测量仪组成开始谈接触角测量仪选购 首先,我们有必要描述一下影像分析法接触角测量仪的系统构成接触角测量仪的运用领域有哪些?视频接触角测量仪使用说明
无锡接触角测量仪的设计方案。湖南粉体接触角测量仪
混合等离子体涂层沉积设备混合等离子体涂层沉积设备是在所需基材上沉积功能性涂层(防腐、耐磨、耐高温氧化、自润滑等各种功能涂层)及装饰涂层(黑色、红色、蓝色等多种颜色)的仪器。那么它的特点你特点:技术指标高等离子体的离化率和高能束;高的清洗刻蚀速率和薄膜沉积速率;低温沉积(